INTAの年次大会から帰還しました。

5月1日から米国に出張していました。
米国の特許事務所訪問するためと、ダラスで行われたINTA Annual Meeting（国際商標協会の年次大会）に参加するためです。

H所長のブログにも掲載されていましたが、INTA期間中は、外国のお客様や特許事務所の弁護士・弁理士たちと、たくさんのミーティングを行ってきました。

写真は、創英から参加したメンバーです（全員ではありません）。
INTAの最終日のイベントが終わった後、午後11時も過ぎた頃だったでしょうか。

ホテルのバーで、軽いお疲れ様会をした時のものです。

ちなみに、この写真には、創英の京都オフィスのW弁理士も写っています。
W弁理士は、3ヶ月間の米国・ワシントンDC駐在を行っていましたが、このINTAに参加した後、やはり日本に帰国し、本日から京都オフィスに復帰しています。

福岡オフィスのC弁理士も写っていますし、まさに、各地の創英のメンバーがダラスの地に集結し、様々な活動を行ったのでした。

（Y.N.）